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多晶硅生产设备安装前清洗技术要求



蒸馏塔、精馏塔设计单位雷特石化8月8日讯 多晶硅装备的清洗主要工艺为酸洗、脱脂、钝化、干燥等,其中最关头是脱脂工艺和干燥技术。油脂和水对多晶硅的产物有庞大影响。是以在多晶硅装备的清洗中,以脱脂工艺和干燥工艺为要点。主要清洗还原炉、氢化炉、CDI装备、合成车间、还原氢化车间、精馏系统、中心罐、管道等主要装备。而且为了保证脱脂和干燥的质量,多晶硅装备清洗需要对单台装备进行单台清洗并验收后,再进行安装。
  1、污垢主要对多晶硅影响身分
  1、油脂:在多晶硅生产进程中,油份子对多晶硅的风险十分严重。现实证实,整个工艺系统几PPM的油含量就可能造成多晶硅反应速度减慢,产量下降,甚至硅反应遏制。是以,多晶硅装备的脱脂工艺尤其重要。
  2、水份:水中含有年夜量的氯离子,氯离子对多晶硅的反应十分敏感。装备及系统干燥工艺很关头。
  3、氯离子残留:水和其他溶液在装备概况残留的氯离子对多晶硅影响十分年夜。是以,在清洗后对装备进行纯水冲洗工艺十分重要。
  4、氧化物、灰尘其他杂质:其他污垢的存在,对多晶硅的生产影响也很年夜。是以,在装备清洗进程中,采用酸洗工艺对其他污垢进行清洗十分需要。
  2、国内年夜、中型化工生产装配清洗现状
  国外对装备、管道的清洗十分重视,有专门从事清洗的研究机构。再国外,设计单元在设计化工工艺流程及要求时已将清洗斟酌了进往,并做了概算及投资。清洗方式也有单一的水力清洗发单调成长到化学清洗、机械清洗等。世界列国对清洗行业的组织形式是多种多样的,从单个零件到整个装配的清洗,既有专业化学清洗公司,也有企业自行组织的清洗队伍。有的装备、管道及零部件需经常定期清洗,而且部门生产装备自己就装有固有的清洗装配,清洗技术的运用有了很年夜的前进。
  生产多晶硅的工艺较多,各个国家生产厂家在开发新技术、进行技术改造的同时,经由过程对装备的清洗来下降能耗和保证多晶硅的产物质量。提高装备运转率,延长使用寿命,争取以最低的能耗,生产出更多的多晶硅产物。
  3、多晶硅装配开车前化学清洗的意义
  新建多晶硅装配中的装备、管线、精馏塔、槽、还原炉、氢化炉在制造、贮存、运输和安装进程中会发生年夜量的污物。这些污物主要有:油脂、扎制鳞片、氧化皮、泥沙、焊渣、焊药、防锈油及概况涂层等。其中焊渣、焊药的主要成份为钛、锰、铬、铁等金属氧化物,而切削油和防锈油及概况涂层则是一些高份子有机物。
  新建多晶硅装备进行化学清洗,不仅要进行高要求的除油脂处置,而且还要进行化学清洗和钝化庇护处置。随着缓蚀技术的成长,金属装备在化学清洗进程中的侵蚀损失已降到了很小,最终的钝化处置将有助于减小装备运行中的侵蚀。另外,同酸洗时的侵蚀相比,轧制鳞片、氧化锈皮、泥沙、焊渣、防锈油及涂层等引发的装备运行事故加倍具有危险性。由于化学清洗以后,获得了清洁的金属概况,因而能更快的生产出及格的产物,工场由此获得的经济效益将年夜年夜跨越清洗的投资费用。今朝,各类新建装配尤其是高温、高压装备、年夜型装备和生产工艺要求比力高的装备和管线,再投产前都要进行化学清洗。不仅要清洗装备本体,而且要清洗那些与装备毗连有可能把污物带进的其他管道和装备。一样,我们认为多晶硅装配不仅要清洗工艺系统,其它附属装备的化学清洗和钝化处置对装备的运行平安和寿命意义重年夜,是以,我们建议所有的装备必需进行化学清洗。

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